ЦЕНТР 9.1 «ЭЛЕКТРОННЫХ ТЕХНОЛОГИЙ И ТЕХНИЧЕСКОЙ ДИАГНОСТИКИ ТЕХНОЛОГИЧЕСКИХ СРЕД И ТВЕРДОТЕЛЬНЫХ СТРУКТУР»



 

 

 

 

 

 

НАПРАВЛЕНИЯ ИССЛЕДОВАНИЙ

  • разработка ионных источников для процессов ионно-лучевого распыления, двойного ионно-лучевого распыления, ионно-ассистированного нанесения слоев (IBAD)
  • разработка магнетронных распылительных систем и несбалансированных магнетронных распылительных систем, в том числе для процессов магнетронного распыления при пониженном давлении
  • процессы реактивного ионно-лучевого и магнетронного распыления
  • процессы несбалансированного магнетронного распыления
  • методы нейтрализации ионных пучков
  • разработка процессов ионно-плазменного нанесения многослойных оптических структур с высокой стойкостью параметров
  • разработка составов и процессов нанесения high-k и low-k диэлектриков
  • разработка составов и процессов нанесения магниторезистивных тонких пленок
  • разработка процессов ионно-плазменного нанесения функциональных слоев для твердооксидных топливных элементов
  • ионная полировка оптических деталей

 

ПРОДУКЦИЯ

  • ИОННЫЕ ИСТОЧНИКИ

           - распыляющий ионный источник на основе ускорителя с анодным слоем SPIS-002
           - ассистирующий ионный источник на основе ускорителя с анодным слоем ASIS-002
           - двухлучевой ионный источник на основе ускорителя с анодным слоем DBIS-001
           - ионный источник на основе торцевого холловского ускорителя EHIS-002
           - ионные источники на основе торцевого холловского ускорителя серии EHPM
           - ионный источник на основе торцевого холловского ускорителя с интегрированным плазменным источником электронов
           - ассистирующий ионный источник с двойным холловским током
           - ассистирующий ионный источник с комбинированным анодным слоем
           - протяженный ассистирующий ионный источник
           - протяжный распыляющий / ассистирующий ионный источник с поворотной мишенью

  • ПЛАЗМЕННЫЕ ИСТОЧНИКИ ДЛЯ НЕЙТРАЛИЗАЦИИ ИОННЫХ ПУЧКОВ

           - безнакальный нейтрализатор ионного пучка NEO-001

  • МАГНЕТРОННЫЕ РАСПЫЛИТЕЛЬНЫЕ СИСТЕМЫ

           - магнетронные распылительные системы серии МАРС-100
           - RF/DC магнетронная распылительная система МИРАЖ-010.080
           - RF/DC магнетронная распылительная система RIF-001.036
           - протяженные магнетронные распылительные системы серии МСПР-1000
           - магнетронная распылительная система несбалансированного типа МАС-80

  • СИСТЕМЫ ДИАГНОСТИКИ ПАРАМЕТРОВ

           - система диагностики параметров ионных пучков и потоков заряженных частиц ДЕНИ-1500/001
           - кварцевый датчик QI-001
           - датчик измерения плотности тока заряженных частиц СР-002

 

УСЛУГИ

  • выполнение заказов по разработке ионно-плазменных устройств различной сложности и нанесению тонких пленок методами ионно-лучевого распыления, реактивного ионно-лучевого распыления
  • разработка и создание многофункциональной модульной вакуумной техники
  • разработка устройств проводится с применением современных методов компьютерного моделирования и оригинального программного обеспечения

 

ГЕОГРАФИЯ СОТРУДНИЧЕСТВА

Беларусь, Россия, Южная Корея, Китай 

 

ИНФОРМАЦИЯ О РУКОВОДИТЕЛЕ

Завадский Сергей Михайлович
начальник центра
кандидат технических наук, доцент
☏  +375 17 293 80 79
🖂   szavad@bsuir.by
персональная страница
 

ИНФОРМАЦИЯ О НАУЧНОМ РУКОВОДИТЕЛЕ

Достанко Анатолий Павлович
академик НАН Беларуси, доктор технических наук, профессор
☏  +375 17 293 85 01
🖂   szavad@bsuir.by
персональная страница

 

КОНТАКТЫ ПОДРАЗДЕЛЕНИЯ

ул. П. Бровки, 6, г. Минск, 220013, Республика Беларусь
☏  +375 17 293 80 79
🖷  +375 17 390 96 28
🖂   szavad@bsuir.by
🌐  plasma.bsuir.by
✎  ул. П. Бровки, 6, каб. 109