Малогабаритная СВЧ-плазмохимическая установка

НАЗНАЧЕНИЕ

Предназначена для очистки подложек, удаления фоторезистивных покрытий, лаков и мастик, плазмохимического осаждения пленок, модификации поверхности материалов, восстановления деталей и узлов сложной формы.

ТЕХНИЧЕСКИЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ

Количество одновременно обрабатываемых пластин, шт.

Ø 100 мм

60x48 мм2

 

20

25

Производительность на операции удаления

фоторезиста для пластин Ø 100 мм не менее, шт./ч 100

 

100

Диапазон рабочих давлений, Па

10…1000

Рабочая частота, ГГц

2,45

Количество газовых магистралей

2…4

Потребляемая мощность не более, Вт

1500

Габаритные размеры, мм

60x48x58

Масса, кг

48

Конструктивно установка выполнена в виде переносного блока настольного типа. Может работать в двух вариантах: с системой перемещения подложек в процессе обработки и с установкой подложек в неподвижные кварцевые кассеты.

ПРЕИМУЩЕСТВА

Использование неэнергоемких, ресурсосберегающих процессов, простота и надежность работы системы, легкость управления.

КОНТАКТЫ

ул. П. Бровки, 6, г. Минск, 220013, Республика Беларусь

Телефон: +375 17 293-80-79  
Факс: +375 17 292-96-28
e-mail: szavad@bsuir.by

ДРУГИЕ РАЗРАБОТКИ НАПРАВЛЕНИЯ:

ГКР-активные подложки для повышения чувствительности спектроскопии комбинационного рассеяния света

Программно-управляемое оборудование импульсного электролиза для формирования многослойных функциональных электрохимических покрытий

Технология композиционно-модулированных многослойных структур на основе золота (серебра) и ультрадисперсного алмаза (УДА)

Программный комплекс моделирования процесса плазменного напыления покрытий

Ионный источник для ионно-ассистированного нанесения слоев

Распыляющий ионный источник

Ионный двухлучевой источник

Ионный источник на основе торцевого холловского ускорителя

Безканальный нейтрализатор ионного пучка

Технология ионно-ассистированного осаждения пленок

Несбалансированная магнетронная распылителительная система

Магнетронные распылительные устройства постоянного, импульсного тока для формирования тонких пленок

Установка для азотирования в плазме пульсирующего тока

Низковакуумное и ионно-ассистированное магнетронное распыление

Технология ионно-плазменного нанесения

Мини-фабрика заказных микроэлектронных изделий

Реактор комбинированного изотропно-анизотропного травления материальной электронной техники

Устройство вакуумного осаждения органических мультислойных пленок

Установка синтеза массивов углеродных нанотрубок «Нанофаб-1»

Технология быстрого производства систем на пластине (SoW)

Наноструктурные материалы на основе углеродных нанотрубок

Алюминиевые анодированные основания (подложки)

Многоуровневые системы межсоединений

Электрохимическая алюмооксидная технология (ЭЛАТ) создания изделий электронной техники

Алюминиевые многовыводные корпуса

Тонкопленочные температурные сенсоры

Нагревательные элементы на основе алюминия

Наноструктурированные функциональные слои для изделий бытовой и промышленной электроники

Микродисплей светоизлучающего типа для видеопроекционных устройств и систем персонального типа

Светоизлучающие диоды на основе наноструктурированного кремния

Технология формирования индикатора изображения на алюминии

Технология формирования кластеров германия в пленках поликристаллического кремния, легированных германием