Технология быстрого производства систем на пластине (SoW)

Система на пластине (SoW) – самое сложное изделие микроэлектроники, объединяющее дополнительными уровнями металлизации в субсистему всех интегральных схем, созданных на пластине.

Техническая целесообразность

Технология SoW вытекает из необходимости сокращения длины связей между блоками системы и тем самым повышение ее быстродействия.

Изготовление SoW на пластинах исключает

90 % затрат на дорогостоящие операции по сборке в корпус каждой входящей в нее ИС, соединение их в систему с помощью печатных плат, что снижает стоимость систем.

Увеличивает

Быстродействие и надежность.

Технология создания SoW

Обеспечивают экономическую целесообразность при низком объеме производства вплоть до единичного изделия.

Достигается

  • Использованием полузаказного метода формирования функциональных блоков SoW на основе БМК, IP-блоков, мегаэлементов.
  • Применением бесшаблонной фотолитографии.
  • Выполнение LPGA на минифабрике с неполным циклом, обеспечивающей бесшаблонное программирование межсоединений каждого БМК и соединения их, IP-блоков, мегаэлементов в SoW на пластинах-заготовках, изготовленных в массовом производстве-мегафабах.

КОНТАКТЫ

ул. П. Бровки, 6, г. Минск, 220013, Республика Беларусь

Телефоны:

Факсы:

 

+375 17 293-84-42

+375 17 293-84-96

+375 17 293-80-02

+375 17 293-38-57

+375 17 293-38-57

e-mail: info@mwmlab.com

+375 17 293-88-76

cайт: www.mwmlab.com

ДРУГИЕ РАЗРАБОТКИ НАПРАВЛЕНИЯ:

Программно-управляемое оборудование импульсного электролиза для формирования многослойных функциональных электрохимических покрытий

Малогабаритная СВЧ-плазмохимическая установка

Технология композиционно-модулированных многослойных структур на основе золота (серебра) и ультрадисперсного алмаза (УДА)

Программный комплекс моделирования процесса плазменного напыления покрытий

Ионный источник для ионно-ассистированного нанесения слоев

Распыляющий ионный источник

Ионный двухлучевой источник

Ионный источник на основе торцевого холловского ускорителя

Безканальный нейтрализатор ионного пучка

Технология ионно-ассистированного осаждения пленок

Несбалансированная магнетронная распылителительная система

Магнетронные распылительные устройства постоянного, импульсного тока для формирования тонких пленок

Установка для азотирования в плазме пульсирующего тока

Низковакуумное и ионно-ассистированное магнетронное распыление

Технология ионно-плазменного нанесения

Мини-фабрика заказных микроэлектронных изделий

Реактор комбинированного изотропно-анизотропного травления материальной электронной техники

Устройство вакуумного осаждения органических мультислойных пленок

Установка синтеза массивов углеродных нанотрубок «Нанофаб-1»

Наноструктурные материалы на основе углеродных нанотрубок

Алюминиевые анодированные основания (подложки)

Многоуровневые системы межсоединений

Электрохимическая алюмооксидная технология (ЭЛАТ) создания изделий электронной техники

Алюминиевые многовыводные корпуса

Тонкопленочные температурные сенсоры

Нагревательные элементы на основе алюминия

Наноструктурированные функциональные слои для изделий бытовой и промышленной электроники

Микродисплей светоизлучающего типа для видеопроекционных устройств и систем персонального типа

Светоизлучающие диоды на основе наноструктурированного кремния

Технология формирования индикатора изображения на алюминии

Технология формирования кластеров германия в пленках поликристаллического кремния, легированных германием