Технология ионно-плазменного нанесения

НАЗНАЧЕНИЕ

Предназначена для нанесения многослойных оптических, защитно-декоративных и функциональных покрытий с высокой стойкостью параметров. Нанесение многослойных структур тонких пленок металлов и соединений методами ионно-лучевого, магнетронного, реактивного ионно-лучевого, реактивного магнетронного распыления и непосредственного нанесения из пучка.

Применение

  • Изготовление лазерных зеркал с высокой стойкостью к лазерному излучению.
  • Изготовление оптических фильтров с высокими трибологическими свойствами.
  • Изготовление ИК зеркал и тепловых экранов с высокой стойкостью параметров при воздействии повышенных температур и влаги.

ТЕХНИЧЕСКИЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ

Пленкообразующие материалы

Al, Cu, Ag, Ti, In, Ta, Si, TiO2, SiO2, AlN, In2O3,

Ta2O5, Al2O3 и др.

Количество различных слоев, наносимых в едином вакуумном

цикле

до 4

Размеры подложки, мм

до 500

Количество одновременно обрабатываемыx подложек

размером 60x48 мм, шт.

до 200

ПРЕИМУЩЕСТВА

  • Возможность нанесения:

многослойных структур в едином вакуумном цикле;

слоев металлов, полупроводников и диэлектриков;

компонентных слоев с сохранением стехиометрии;

слоев на различные подложки, включая полимеры.

  • Повышение адгезии слоев к подложке и межслойной адгезии за счет применения технологии ионного перемешивания (ion mixing) и ионной очистки.
  • Высокая управляемость характеристиками наносимых слоев.

КОНТАКТЫ

ул. П. Бровки, 6, г. Минск, 220013, Республика Беларусь

Телефон: +375 17 293-80-79  
Факс: +375 17 292-96-28
e-mail: szavad@bsuir.by

ДРУГИЕ РАЗРАБОТКИ НАПРАВЛЕНИЯ:

ГКР-активные подложки для повышения чувствительности спектроскопии комбинационного рассеяния света

Программно-управляемое оборудование импульсного электролиза для формирования многослойных функциональных электрохимических покрытий

Малогабаритная СВЧ-плазмохимическая установка

Технология композиционно-модулированных многослойных структур на основе золота (серебра) и ультрадисперсного алмаза (УДА)

Программный комплекс моделирования процесса плазменного напыления покрытий

Ионный источник для ионно-ассистированного нанесения слоев

Распыляющий ионный источник

Ионный двухлучевой источник

Ионный источник на основе торцевого холловского ускорителя

Безканальный нейтрализатор ионного пучка

Технология ионно-ассистированного осаждения пленок

Несбалансированная магнетронная распылителительная система

Магнетронные распылительные устройства постоянного, импульсного тока для формирования тонких пленок

Установка для азотирования в плазме пульсирующего тока

Низковакуумное и ионно-ассистированное магнетронное распыление

Мини-фабрика заказных микроэлектронных изделий

Реактор комбинированного изотропно-анизотропного травления материальной электронной техники

Устройство вакуумного осаждения органических мультислойных пленок

Установка синтеза массивов углеродных нанотрубок «Нанофаб-1»

Технология быстрого производства систем на пластине (SoW)

Наноструктурные материалы на основе углеродных нанотрубок

Алюминиевые анодированные основания (подложки)

Многоуровневые системы межсоединений

Электрохимическая алюмооксидная технология (ЭЛАТ) создания изделий электронной техники

Алюминиевые многовыводные корпуса

Тонкопленочные температурные сенсоры

Нагревательные элементы на основе алюминия

Наноструктурированные функциональные слои для изделий бытовой и промышленной электроники

Микродисплей светоизлучающего типа для видеопроекционных устройств и систем персонального типа

Светоизлучающие диоды на основе наноструктурированного кремния

Технология формирования индикатора изображения на алюминии

Технология формирования кластеров германия в пленках поликристаллического кремния, легированных германием