Установка для азотирования в плазме пульсирующего тока

НАЗНАЧЕНИЕ

Предназначена для поверхностной упрочняющей обработки штампового и режущего инструмента, деталей машин, механизмов путем ионно-плазменного азотирования при температуре 450 – 600 °С.

ТЕХНИЧЕСКИЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ

Мощность разряда, кВА

до 25

Рабочий объем вакуумной камеры, м3

0,13

Загрузка, кг

200

Рабочий газ

аммиак, азот, аргон, азотно-водородные смеси

Площадь, занимаемая установкой, м2

6

Потребляемая от сети мощность, кВА

30

Режим работы

ручной

ПРЕИМУЩЕСТВА

Ионно-плазменная обработка может быть использована вместо газового азотирования, процесса цементации и нитроцементации. Позволяет сократить продолжительность обработки в 2 – 5 раз, расход рабочих газов в 50 – 150 раз, расход электроэнергии на 50 – 70 %, износостойкость штампового и режущего инструмента увеличивается в 1,5 – 2 раза.

КОНТАКТЫ

ул. П. Бровки, 6, г. Минск, 220013, Республика Беларусь

Телефон: +375 17 293-80-79  
Факс: +375 17 292-96-28
e-mail: szavad@bsuir.by

ДРУГИЕ РАЗРАБОТКИ НАПРАВЛЕНИЯ:

Программно-управляемое оборудование импульсного электролиза для формирования многослойных функциональных электрохимических покрытий

Малогабаритная СВЧ-плазмохимическая установка

Технология композиционно-модулированных многослойных структур на основе золота (серебра) и ультрадисперсного алмаза (УДА)

Программный комплекс моделирования процесса плазменного напыления покрытий

Ионный источник для ионно-ассистированного нанесения слоев

Распыляющий ионный источник

Ионный двухлучевой источник

Ионный источник на основе торцевого холловского ускорителя

Безканальный нейтрализатор ионного пучка

Технология ионно-ассистированного осаждения пленок

Несбалансированная магнетронная распылителительная система

Магнетронные распылительные устройства постоянного, импульсного тока для формирования тонких пленок

Низковакуумное и ионно-ассистированное магнетронное распыление

Технология ионно-плазменного нанесения

Мини-фабрика заказных микроэлектронных изделий

Реактор комбинированного изотропно-анизотропного травления материальной электронной техники

Устройство вакуумного осаждения органических мультислойных пленок

Установка синтеза массивов углеродных нанотрубок «Нанофаб-1»

Технология быстрого производства систем на пластине (SoW)

Наноструктурные материалы на основе углеродных нанотрубок

Алюминиевые анодированные основания (подложки)

Многоуровневые системы межсоединений

Электрохимическая алюмооксидная технология (ЭЛАТ) создания изделий электронной техники

Алюминиевые многовыводные корпуса

Тонкопленочные температурные сенсоры

Нагревательные элементы на основе алюминия

Наноструктурированные функциональные слои для изделий бытовой и промышленной электроники

Микродисплей светоизлучающего типа для видеопроекционных устройств и систем персонального типа

Светоизлучающие диоды на основе наноструктурированного кремния

Технология формирования индикатора изображения на алюминии

Технология формирования кластеров германия в пленках поликристаллического кремния, легированных германием