Установка синтеза массивов углеродных нанотрубок «Нанофаб-1»

НАЗНАЧЕНИЕ

Предназначена для проведения процессов экологически безопасного, нетоксичного и низкозатратного синтеза массивов углеродных нанотрубок в объеме реактора и на поверхности функциональной подложки методом химического парофазного осаждения в процессе каталитического пиролиза жидкофазных и газофазных углеводородов.

ТЕХНИЧЕСКИЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ

Тип исходного углеводорода

жидкий, газообразный

Тип катализатора

летучий, локализованный

Диаметр реактора, мм

10

Рабочее давление в реакционной зоне, Па

1,0…10 5

Температурный режим реакционной зоны, °С

до 1100

Концентрация катализатора в смеси, %

0,1…10,0

Скорость инжекции смеси, см3/мин

0,001…10

Скорость газа-носителя, см3/мин

10…1000

Напряжение питания, В

220; 380

Потребляемая мощность, кВт

1,0

Вес, кг

25

Габариты, м

1,1x0,25x0,5

КОНТАКТЫ

ул. П. Бровки, 6, г. Минск, 220013, Республика Беларусь

Телефон: +375 17 293-23-32  
Факс: +375 17 292-96-28
e-mail: minifab@bsuir.by

ДРУГИЕ РАЗРАБОТКИ НАПРАВЛЕНИЯ:

ГКР-активные подложки для повышения чувствительности спектроскопии комбинационного рассеяния света

Программно-управляемое оборудование импульсного электролиза для формирования многослойных функциональных электрохимических покрытий

Малогабаритная СВЧ-плазмохимическая установка

Технология композиционно-модулированных многослойных структур на основе золота (серебра) и ультрадисперсного алмаза (УДА)

Программный комплекс моделирования процесса плазменного напыления покрытий

Ионный источник для ионно-ассистированного нанесения слоев

Распыляющий ионный источник

Ионный двухлучевой источник

Ионный источник на основе торцевого холловского ускорителя

Безканальный нейтрализатор ионного пучка

Технология ионно-ассистированного осаждения пленок

Несбалансированная магнетронная распылителительная система

Магнетронные распылительные устройства постоянного, импульсного тока для формирования тонких пленок

Установка для азотирования в плазме пульсирующего тока

Низковакуумное и ионно-ассистированное магнетронное распыление

Технология ионно-плазменного нанесения

Мини-фабрика заказных микроэлектронных изделий

Реактор комбинированного изотропно-анизотропного травления материальной электронной техники

Устройство вакуумного осаждения органических мультислойных пленок

Технология быстрого производства систем на пластине (SoW)

Наноструктурные материалы на основе углеродных нанотрубок

Алюминиевые анодированные основания (подложки)

Многоуровневые системы межсоединений

Электрохимическая алюмооксидная технология (ЭЛАТ) создания изделий электронной техники

Алюминиевые многовыводные корпуса

Тонкопленочные температурные сенсоры

Нагревательные элементы на основе алюминия

Наноструктурированные функциональные слои для изделий бытовой и промышленной электроники

Микродисплей светоизлучающего типа для видеопроекционных устройств и систем персонального типа

Светоизлучающие диоды на основе наноструктурированного кремния

Технология формирования индикатора изображения на алюминии

Технология формирования кластеров германия в пленках поликристаллического кремния, легированных германием