Устройство вакуумного осаждения органических мультислойных пленок

НАЗНАЧЕНИЕ

Предназначено для экономичного и равномерного напыления мультислойных тонкопленочных гетероструктур широкой области приложения:

  • «сухие» фоторезистивные материалы в области микро- и нанолитографии;
  • элементная база органической электроники (диоды, транзисторы, интегральные микросхемы);
  • инжекционные, транспортные, эмиссионные слои органических электролюминесцентных дисплеев;
  • донор-акцепторные слои органических преобразователей солнечной энергии.

ТЕХНИЧЕСКИЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ

Диаметр рабочей подложки, мм

150

Неоднородность толщины органического слоя по площади подложки, %

3

Рабочий диапазон температуры, °С

80…400

Рабочее давление, Па

не более 2·10-3

Конструктив источника совместим с серийным вакуумными системами

«Отелло-43», «Ион»

ПРЕИМУЩЕСТВА

Высокая равномерность и экономичность запыления индивидуальных подложек, статический режим работы, не требующий механических перемещений подложки, масштабируемость конструктива при увеличении диаметра рабочей подложки.

КОНТАКТЫ

ул. П. Бровки, 6, г. Минск, 220013, Республика Беларусь

Телефон: +375 17 293-23-32  
Факс: +375 17 292-96-28
e-mail: minifab@bsuir.by

ДРУГИЕ РАЗРАБОТКИ НАПРАВЛЕНИЯ:

ГКР-активные подложки для повышения чувствительности спектроскопии комбинационного рассеяния света

Программно-управляемое оборудование импульсного электролиза для формирования многослойных функциональных электрохимических покрытий

Малогабаритная СВЧ-плазмохимическая установка

Технология композиционно-модулированных многослойных структур на основе золота (серебра) и ультрадисперсного алмаза (УДА)

Программный комплекс моделирования процесса плазменного напыления покрытий

Ионный источник для ионно-ассистированного нанесения слоев

Распыляющий ионный источник

Ионный двухлучевой источник

Ионный источник на основе торцевого холловского ускорителя

Безканальный нейтрализатор ионного пучка

Технология ионно-ассистированного осаждения пленок

Несбалансированная магнетронная распылителительная система

Магнетронные распылительные устройства постоянного, импульсного тока для формирования тонких пленок

Установка для азотирования в плазме пульсирующего тока

Низковакуумное и ионно-ассистированное магнетронное распыление

Технология ионно-плазменного нанесения

Мини-фабрика заказных микроэлектронных изделий

Реактор комбинированного изотропно-анизотропного травления материальной электронной техники

Установка синтеза массивов углеродных нанотрубок «Нанофаб-1»

Технология быстрого производства систем на пластине (SoW)

Наноструктурные материалы на основе углеродных нанотрубок

Алюминиевые анодированные основания (подложки)

Многоуровневые системы межсоединений

Электрохимическая алюмооксидная технология (ЭЛАТ) создания изделий электронной техники

Алюминиевые многовыводные корпуса

Тонкопленочные температурные сенсоры

Нагревательные элементы на основе алюминия

Наноструктурированные функциональные слои для изделий бытовой и промышленной электроники

Микродисплей светоизлучающего типа для видеопроекционных устройств и систем персонального типа

Светоизлучающие диоды на основе наноструктурированного кремния

Технология формирования индикатора изображения на алюминии

Технология формирования кластеров германия в пленках поликристаллического кремния, легированных германием