Home / Research Areas / Plasma technologies and facilities, medical electronics

Sergei Zavadski 

Head of R&D Center "Plasma Processing Research Center"

PhD (Engineering), Associate Professor 

☏  +375 17 293 80 79

🖂  szavad@bsuir.by  

Scopus profile

Google Scholar profile

 

FIELD OF EXPERTISE

  • Design and fabrication of ion-beam and plasma devices for thin film deposition: sputtering ion sources, sources for ion-assisted deposition, magnetron sputtering systems.
  • Investigation and development of ion-beam and plasma deposition processes for thin films formation: ion beam sputtering, dual ion-beam deposition, ion-assisted deposition, reactive magnetron sputtering, unbalanced magnetron sputtering, pulsed and RF magnetron sputtering.

 

TEACHING OF ACADEMIC DISCIPLINES

  • Integrated automated technological complexes.
  • Plasma and beam technologies.

 

EDUCATION

2002 – PhD degree, thesis on “The integrated ion plasma processes of thin film structures formation on complicated - relief surfaces” (Major “Technologies and equipment to fabricate semiconductors, electronic materials and devices”), BSUIR, Belarus.
 
1992 – Higher education degree, qualification of Design Engineer & Technologist of Radioelectronic Equipment, Minsk Radioengineering Institute (renamed into BSUIR in 1993), Belarus.
 
 
SUMMARY OF POSITIONS HELD
 
He began his scientific work at the age of 25. Currently, he is the head of the Plasma Processing Research Center (also known as R&D Center "Electronic Technologies and engineering diagnostics of process media and solid-state structures", Ion Plasma Systems and Technologies Center) of the R&D Department of BSUIR.

PUBLICATIONS, PATENTS AND OTHER SCIENTIFIC WORKS

More than 120 scientific publications, including seven scientific monographs, 50+ papers in international journals and conferences, six patents.

 

MAJOR PAPERS PUBLISHED IN 2015-2020 

  • Голосов Д.А., Окс Е.М., Бурдовицин В.А., Нгуен Т.Д., Мельников С.Н., Завадский С.М., Поболь И.Л., Кананович Н.А., Тиан К., Лам Н.Н. Влияние степени легирования алюминием на механические и триботехнические характеристики пленок нитрида титана-алюминия // Трение и износ. – 2020. – Т. 41, № 4. – С. 420–426.
  • Руденков А.С., Рогачев А.В., Завадский С.М., Голосов Д.А., Лучников П.А. Повышение механических характеристик кремний-углеродных покрытий методом ионного азотирования структуры // Нанотехнологии: разработка, применение – XXI век. – 2020. – Т. 12, № 1. – С. 22–28.
  • Nitrided Silicon-Carbon Coatings Structure and Properties / A.S. Rudenkov, A.V. Rogachev, S.M. Zavadski, D.A. Golosov, P.A. Luchnikov, G.Yu. Dalskaya, A.N. Vtoruchina // Вестник Карагандинского университета. Серия «Физика». – 2020. – № 2 (98). – С. 7–17.
  • D. Golosov, E. Oks, V. Burdovitsin, T. Nguyen, S. Melnikov, S. Zavadski, I. Pobol, N. Kananovich, Tian Xiubo, N. Lam The effect of the degree of aluminum alloying on the mechanical and tribological characteristics of titanium-aluminum nitride films / Journal of Friction and Wear. – 2020. – Vol. 41, № 4. – P. 304–309.
  • Нгуен Т.Д., Занько А.И., Голосов Д.А., Завадский С.М., Мельников С.Н., Колос В.В. Электрофизические свойства пленок оксида ванадия, нанесенных методом реактивного магнетронного распыления / Доклады БГУИР. – 2020. – Т. 18, № 6. – С. 94–102.
  • J Zhang, G Zhu, W Liu, Y Xi, D. Golosov, S. Zavadski, S. Melnikov 3D core-shell WO3@ α-Fe2O3 photoanode modified by ultrathin FeOOH layer for enhanced photoelectrochemical performances / Journal of Alloys and Compounds. – 2020. – Vol. 834. – P. 154992.
  • Z. Vakulov, E. Zamburg, D. Khakhulin, A. Geldash, D. Golosov, S. Zavadski, A. Miakonkikh, K. Rudenko, A. Dostanko, Zh. He, O. Ageev Oxygen Pressure Influence on Properties of Nanocrystalline LiNbO3 Films Grown by Laser Ablation / Nanomaterials. – 2020. – Vol. 10, № 7. – P. 1371.
  • J. Zhang, Ch. Yang, Sh. Li, Y. Xi, Ch. Cai, W. Liu, D. Golosov, S. Zavadski, S. Melnikov Preparation of Fe3+ Doped High-Ordered TiO2 Nanotubes Arrays with Visible Photocatalytic Activities / Nanomaterials. – Vol. 10, № 11. P. 2107 (1–12).
  • Инновационные технологии и оборудование субмикронной электроники / А. П. Достанко [и др.] ; под ред. акад. НАН Беларуси А. П. Достанко. – Минск : Беларуская навука, 2020. – 260 с.
  • V. Burdovitsin, D. Golosov, E. Oks, A. Tyunkov, Yu. Yushkov, D. Zolotukhin, S. Zavadsky Electron beam nitriding of titanium in medium vacuum // Surface & Coatings Technology. – 2019. – Vol. 358. – P. 726–731.
  • Руденков А.С., Рогачев А.В., Купо А.Н., Завадский С.М., Голосов Д.А., Лучников П.А. Влияние режимов формирования и условий термообработки на фазовый состав и структуру кремний-углеродных покрытий, осаждаемых ионно-лучевым распылением // Наноматериалы и наноструктуры – XXI век. – 2019. – Т. 10, № 2. – С. 29-36.
  • J. Zhang, Y. Yang, J. Zhao, Z. Dai, W. Liu, C. Chen, S. Gao, D. Golosov, S. Zavadski, S. Melnikov Shape tailored Cu2ZnSnS4 nanosheet aggregates for high efficiency solar desalination // Materials Research Bulletin. – 2019. – Vol. 118. – P. 110529
  • Golosov D.A., Vilya N., Zavadski S.М., Melnikov S.N., Avramchuk A.V., Grekhov М.М., Kargin N.I., Komissarov I.V. Influence of film thickness on the dielectric characteristics of hafnium oxide layers // Thin Solid Films. – 2019. – Vol. 690. – P. 137517
  • Технологии субмикронных структур микроэлектроники / А.П. Достанко [и др.]; под ред. акад. А.П. Достанко.– Минск: Беларусская навука, 2018. – 270 с.
  • А.П. Достанко, С.М. Завадский, Д.А. Голосов, Г.П. Бутько, М.В. Ермоленко, С.И. Мадвейко // Интегрированные автоматизированные комплексы: пособие / Достанко А.П.[и др.] – Минск: БГУИР, 2018.- 87 с.
  • Окоджи Д.Э., Голосов Д.А., Мельников С.Н., Завадский С.М., Колос В.В., Поплевка Е.А., Жукович Ю.А. Сегнетоэлектрические свойства пленок танталата стронция-висмута, нанесенных методом ВЧ магнетронного распыления // Проблемы физики, математики и техники. – 2018. – Том. 34, № 1. – С. 33-37.
  • Холов П.А., Гапоненко Н.В., Голосов Д.А., Завадский С.М., Колосницын Б.С., Иванов В.А., Колос В.В. Фототок в структурах кремний/титанат стронция/никель // Доклады БГУИР. – 2018, № 1 (111). – С. 19-24.
  • D. Golosov, J. Okojie, S. Zavadski, A. Rudenkov, V. Kolos, S. Melnikov Stability of the platinum electrode during high temperature annealing // Thin Solid Films. – 2018. – Vol. 661. – P. 53-59.
  • Z. Vakulov, M. Ivonin, E. Zamburg, V. Klimin, D. Volik, D. Golosov, S. Zavadskiy, A. Dostanko, A. Miakonkikh, I. Clemente, K. Rudenko, O. Ageev Size effects in LiNbO3 thin films fabricated by pulsed laser deposition // Journal of Physics: Conference Series. – 2018. – Vol. 1124, №2. – P. 022032. (P. 1-5).
  • Технологические комплексы интегрированных процессов производства изделий электроники / А.П. Достанко [и др.]. – Минск: Беларуская навука, 2016. – 251 с.
  • D. Golosov, S. Zavadski, V. Кolos, A. Turtsevich, D. Okodzhi Influence of the annealing temperature on the ferroelectric properties of niobium-doped strontium–bismuth tantalate // Russian Microelectronics. – 2016. – Vol. 45, № 1. – p. 11–17.
  • Голосов Д.А., Завадский С.М., Колос В.В., Турцевич А.С. Сегнетоэлектрические свойства пленок легированного ниобием танталата стронция-висмута // ФТТ. – 2016. – Том 58, № 1. – с. 51-55.
  • D. Golosov, S. Zavadski, V. Kolos, A. Turtsevich Ferroelectric properties of niobium-doped strontium bismuth tantalate films // Physics of the Solid State. – 2016. – Vol. 58, № 1, p. 50–54.
  • Ермоленко М.В., Завадский С.М., Голосов Д.А., Мельников С.Н., Замбург Е.Г. Трибологические характеристики покрытий TiN, полученные методом реактивного магнетронного распыления при пониженном давлении // Трение и износ. – 2016. – Том 37, № 3. – с. 369-373.
  • M. Ermolenko, S. Zavadski, D. Golosov, S. Melnikov, E. Zamburg Tribological behavior of TiN films deposited by reactive magnetron sputtering under low pressure // Journal of Friction and Wear. – 2016. – Vol. 37, № 3. – p 289–292.
  • Достанко А.П., Голосов Д.А., Завадский С.М., Мельников С.Н., Окоджи Д.Э., Котинго Д.Д., Рубан Г.М. Формирование пленок нитрида титана методом реактивного магнетронного распыления при пониженном давлении // Проблемы физики, математики и техники. – 2016. – Т. 27, № 2. – с. 12-17.
  • D. Golosov, S. Melnikov, S. Zavadski, V. Kolos, J. Okojie The increase in thickness uniformity of films obtained by magnetron sputtering with rotating substrate // Plasma Physics and Technology. – 2016. – Vol. 3, № 3. – p. 100-104.
  • Достанко А.П., Голосов Д.А., Завадский С.М., Соловьев Я.А., Ковальчук Н.С., Мельников С.Н., Стасишина А.М. // Практические занятия по курсу «Проектирование и производство изделий интегральной электроники» / Достанко А.П.[и др.] – Минск: БГУИР, 2015.-81с.
  • D. Golosov, S. Melnikov, S. Zavadski, M. Ermolenko Optical and tribological properties of PVD/CVD diamond-like carbon films // Plasma Physics and Technology. – 2015. – Vol. 2, № 1. – 17-20.
  • Ермоленко М.В., Достанко А.П., Завадский С.М., Голосов Д.А. Исследование оптических характеристик слоев AlN, полученных методами реактивного магнетронного и ионно-лучевого распыления // Доклады БГУИР. – 2015 – № 5, – C. 119-121.
  • Агеев О.А., Юн Чон-Гол, Замбург Е.Г., Варзарев Ю.Н., Джуплин В.Н., Голосов Д.А., Хахулин Д.А. УФ-сенсор на основе нанокристаллических пленок ZnО, полученных методом AACVD // Известия ЮФУ. – 2015. – № 9. – с.66-75.
  • Голосов Д.А., Завадский С.М., Колос В.В., Турцевич А.С., Окоджи Д.Э. Влияние температуры отжига на сегнетоэлектрические свойства пленок легированного ниобием танталата стронция-висмута // Микроэлектроника. – 2015. – Т. 44, № 6, С. 1–8.