РЕАКТОР КОМБИНИРОВАННОГО ИЗОТРОПНО-АНИЗОТРОПНОГО ТРАВЛЕНИЯ МАТЕРИАЛОВ ЭЛЕКТРОННОЙ ТЕХНИКИ
|
|
|
|
НАЗНАЧЕНИЕ
Реактор комбинированного изотропно-анизотропного травления материалов электронной техники предназначен для формирования контактных окон в диэлектрических слоях при создании СБИС.
ТЕХНИЧЕСКИЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ
Характеристики реактора изотропного травления
| Рабочее давление в камере, Па | 10...100 |
| Скорость травления термического SiО2 (в среде SF6), мкм/мин | 0,2...0,3 |
| Неоднородность травления, %, не более | ± 5 |
| Селективность травления SiО2/фоторезист | 5...10 |
| Температура подложки (типовое значение), ºС | +85 |
| ВЧ мощность (частота 13,56 МГц), Вт | до 700 |
| Габариты, мм | 300x300x300 |
Характеристики реактора анизотропного травления
| Рабочее давление в камере, Па | 1...10 |
| Скорость травления термического SiО2 (в среде хладон-218), мкм/мин | 0,1...0,15 |
| Неоднородность травления, %, не более | ± 5 |
| Селективность травления Si/SiО2 | 1/7...10 |
| Температура подложки (типовое значение), ºС | +85 |
| ВЧ мощность (частота 13,56 МГц), Вт | до 700 |
| Габариты, мм | 200 |
ПРЕИМУЩЕСТВА
- простота
- технологичность
- малые габариты
- возможность методом простой коммутации и изменением условий работы обеспечить переход из режима изотропного травления в режим анизотропного в одном вакуумном цикле
РАЗРАБОТЧИК
НИЛ 4.6 «Интегрированные микро- и наносистемы»
КОНТАКТЫ
ул. П. Бровки, 6, г. Минск, 220013, Республика Беларусь
☏ +375 17 293 21 21, +375 17 293 23 32
🖷 +375 17 293 23 32
🖂 labunov@bsuir.by , shulitski@bsuir.by
ДРУГИЕ РАЗРАБОТКИ НАПРАВЛЕНИЯ