ПЛАЗМЕННЫЕ ТЕХНОЛОГИИ

ИОННЫЕ ИСТОЧНИКИ

Распыляющий ионный источник на основе ускорителя с анодным слоем SPIS-002

Ассистирующий ионный источник на основе ускорителя с анодным слоем ASIS-002

Двухлучевой ионный на основе ускорителя с анодным слоем DBIS-001

Ионный источник на основе торцевого холловского ускорителя EHIS-002

Ионные источники на основе торцевого холловского ускорителя серии EHPM 

Ионный источник на основе торцевого холловского ускорителя с интегрированным плазменным источником электронов 

Ассистирующий ионный источник с двойным холловским током

Ассистирующий ионный источник с комбинированным анодным слоем

Протяженный ассистирующий ионный источник

Протяжный распыляющий / ассистирующий ионный источник с поворотной мишенью

 

ПЛАЗМЕННЫЕ ИСТОЧНИКИ ДЛЯ НЕЙТРАЛИЗАЦИИ ИОННЫХ ПУЧКОВ

Безнакальный нейтрализатор ионного пучка NEO-001

 

МАГНЕТРОННЫЕ РАСПЫЛИТЕЛЬНЫЕ СИСТЕМЫ

Магнетронные распылительные системы серии МАРС-100

RF/DC магнетронная распылительная система МИРАЖ-010.080

RF/DC магнетронная распылительная система RIF-001.036

Протяженные магнетронные распылительные системы серии МСПР-1000

Магнетронная распылительная система несбалансированного типа МАС-80 

 

СИСТЕМЫ ДИАГНОСТИКИ ПАРАМЕТРОВ

Система диагностики параметров ионных пучков и потоков заряженных частиц ДЕНИ-1500/001

Кварцевый датчик QI-001

Датчик измерения плотности тока заряженных частиц СР-002

 

ПРОГРАММНЫЙ КОМПЛЕКС «DEPOSITION»

 


КОНТАКТЫ

ул. П. Бровки, 6, г. Минск, 220013, Республика Беларусь
☏  +375 17 293 80 79, +375 17 293 88 35 
🖷  +375 17 293 88 35
🖂   svad@bsuir.by ; szavad@bsuir.by
🌐  plasma.bsuir.by