АССИСТИРУЮЩИЙ ИОННЫЙ ИСТОЧНИК С КОМБИНИРОВАННЫМ АНОДНЫМ СЛОЕМ
|
|
|
|
НАЗНАЧЕНИЕ
Ассистирующий ионный источник с комбинированным анодным слоем предназначен для предварительной очистки и активации поверхности подложек, ионного ассистирования при нанесении тонких пленок и формирования слоев методом непосредственного нанесения из пучка.
ТЕХНИЧЕСКИЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ
| Энергия ионов, эВ |
50...250 400...1000 |
| Ток ионного пучка, мА | до 1,2 |
| Плотность ионного тока при различной энергии ионов, мА/см2 | |
| 50...250 эВ | до 2,0 |
| 400...1000 эВ | до 1,0 |
| 350...1000 эВ | до 0,5 |
| Рабочее давление, Па | 0,015...0,08 |
| Расход газа, мл/мин | 15...60 |
| Неравномерность обработки подложки площадью 200 см2, %, не более | 10 |
ОСОБЕННОСТИ
Ионный источник с с комбинированным анодным слоем представляет собой комбинацию ионного источника на основе ускорителя с анодным слоем (УАС) и торцевого холловского ускорителя (ТХУ) и сочетает свойства УАС и ТХУ. Энергетический диапазон источника состоит из нескольких интервалов: при отдельном включении ТХУ 50-120 эВ и УАС 400-1000 эВ, при совместном режиме 100-250 эВ. При совместном функционировании УАС может использоваться в качестве источника электронов для инициализации и поддержания разряда ТХУ.
ПРЕИМУЩЕСТВА
- наличие двух диапазонов энергий ионов
- возможность работы в безнакальном режиме при одновременном функционировании двух ступеней ионного источника
РАЗРАБОТЧИК
Центр 2.1 "Ионно-плазменные системы и технологии"
КОНТАКТЫ
ул. П. Бровки, 6, г. Минск, 220013, Республика Беларусь
☏ +375 17 293 80 79, +375 17 293 88 35
🖷 +375 17 293 88 35
🖂 svad@bsuir.by ; szavad@bsuir.by
🌐 plasma.bsuir.by
ДРУГИЕ РАЗРАБОТКИ НАПРАВЛЕНИЯ
ПЛАЗМЕННЫЕ ИСТОЧНИКИ ДЛЯ НЕЙТРАЛИЗАЦИИ ИОННЫХ ПУЧКОВ
МАГНЕТРОННЫЕ РАСПЫЛИТЕЛЬНЫЕ СИСТЕМЫ