ЦЕНТР 2.1 «ИОННО-ПЛАЗМЕННЫЕ СИСТЕМЫ И ТЕХНОЛОГИИ»
|
|
|
НАПРАВЛЕНИЯ ИССЛЕДОВАНИЙ
- разработка ионных источников для процессов ионно-лучевого распыления, двойного ионно-лучевого распыления, ионно-ассистированного нанесения слоев (IBAD)
- разработка магнетронных распылительных систем и несбалансированных магнетронных распылительных систем, в том числе для процессов магнетронного распыления при пониженном давлении
- процессы реактивного ионно-лучевого и магнетронного распыления
- процессы несбалансированного магнетронного распыления
- методы нейтрализации ионных пучков
- разработка процессов ионно-плазменного нанесения многослойных оптических структур с высокой стойкостью параметров
- разработка составов и процессов нанесения high-k и low-k диэлектриков
- разработка составов и процессов нанесения магниторезистивных тонких пленок
- разработка процессов ионно-плазменного нанесения функциональных слоев для твердооксидных топливных элементов
- ионная полировка оптических деталей
ПРОДУКЦИЯ
- ИОННЫЕ ИСТОЧНИКИ
- распыляющий ионный источник на основе ускорителя с анодным слоем SPIS-002
- ассистирующий ионный источник на основе ускорителя с анодным слоем ASIS-002
- двухлучевой ионный источник на основе ускорителя с анодным слоем DBIS-001
- ионный источник на основе торцевого холловского ускорителя EHIS-002
- ионные источники на основе торцевого холловского ускорителя серии EHPM
- ионный источник на основе торцевого холловского ускорителя с интегрированным плазменным источником электронов
- ассистирующий ионный источник с двойным холловским током
- ассистирующий ионный источник с комбинированным анодным слоем
- протяженный ассистирующий ионный источник
- протяжный распыляющий / ассистирующий ионный источник с поворотной мишенью
- ПЛАЗМЕННЫЕ ИСТОЧНИКИ ДЛЯ НЕЙТРАЛИЗАЦИИ ИОННЫХ ПУЧКОВ
- безнакальный нейтрализатор ионного пучка NEO-001
- МАГНЕТРОННЫЕ РАСПЫЛИТЕЛЬНЫЕ СИСТЕМЫ
- магнетронные распылительные системы серии МАРС-100
- RF/DC магнетронная распылительная система МИРАЖ-010.080
- RF/DC магнетронная распылительная система RIF-001.036
- протяженные магнетронные распылительные системы серии МСПР-1000
- магнетронная распылительная система несбалансированного типа МАС-80
- СИСТЕМЫ ДИАГНОСТИКИ ПАРАМЕТРОВ
- система диагностики параметров ионных пучков и потоков заряженных частиц ДЕНИ-1500/001
- кварцевый датчик QI-001
- датчик измерения плотности тока заряженных частиц СР-002
УСЛУГИ
- выполнение заказов по разработке ионно-плазменных устройств различной сложности и нанесению тонких пленок методами ионно-лучевого распыления, реактивного ионно-лучевого распыления
- разработка и создание многофункциональной модульной вакуумной техники
- разработка устройств проводится с применением современных методов компьютерного моделирования и оригинального программного обеспечения
ПРОЕКТЫ ЗА 2020 – 2022 ГОДЫ
Научно-технические проекты выполняются в рамках международных и национальных программ, в том числе совместно с партнерами.
1. Исследование и разработка технологии полировки оптических деталей с высоким отношением радиус-толщина с использованием емкостного разряда с магнитным полем.
2. Формирование защитных и износостойких покрытий на титановых сплавах при сочетании электронно-лучевого форвакуумного и ионно-плазменного нанесения.
3. Методы автоматического определения анатомического участка на КТ-изображениях легких.
4. Методы и средства транскутанного мониторинга объёмных и скоростных показателей дыхания.
ИНФОРМАЦИЯ О РУКОВОДИТЕЛЕ
Завадский Сергей Михайлович
начальник центра
кандидат технических наук, доцент
☏ +375 17 293 80 79
🖂 szavad@bsuir.by
персональная страница
КОНТАКТЫ ПОДРАЗДЕЛЕНИЯ
ул. П. Бровки, 6, г. Минск, 220013, Республика Беларусь
☏ +375 17 293 80 79
🖷 +375 17 390 96 28
🖂 szavad@bsuir.by
🌐 plasma.bsuir.by
✎ ул. П. Бровки, 6, каб. 137