АССИСТИРУЮЩИЙ ИОННЫЙ ИСТОЧНИК С ДВОЙНЫМ ХОЛЛОВСКИЙ ТОКОМ
|
|
|
|
НАЗНАЧЕНИЕ
Ассистирующий ионный источник с двойным холловским током предназначен для предварительной очистки и активации поверхности подложек, ионного ассистирования при нанесении тонких пленок и формирования слоев методом непосредственного нанесения из пучка.
ТЕХНИЧЕСКИЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ
| Энергия ионов, эВ | 10...10 000 |
| Ток ионного пучка, мА | до 3,0 |
| Плотность ионного тока при различной энергии ионов, мА/см2 | |
| 10...50 эВ | до 1,0 |
| 50...350 эВ | до 4,0 |
| 350...1000 эВ | до 0,5 |
| Рабочее давление, Па | 0,02...0,08 |
| Расход газа, мл/мин | 10...60 |
| Неравномерность обработки подложки площадью 200 см2, %, не более | 10 |
ОСОБЕННОСТИ
В данном ионном источнике с двойным холловским током применена конфигурация разрядной зоны с двумя анодами и двумя источниками магнитного поля на основе электромагнитов. В зависимости от требуемого режима работы ионного источника электромагниты включаются либо во "встречном" либо "попутном" направлении, что позволяет управлять формой магнитного поля в области генерации и ускорения ионов. При "встречном" включении электромагнитов формируется магнитное поле со значительной осевой составляющей, и источник генерирует пучок ионов с энергиями до нескольких сотен электронвольт. Для формирования пучка ионов с более высокими энергиями (до 1 кэВ) на электромагниты включаются в "попутном" направлении и в разрядной области формируется радиальное магнитное поле.
ПРЕИМУЩЕСТВА
- расширенный диапазон энергий ионного пучка
- возможность управления профилем ионного пучка путем изменения распределения магнитных полей в разрядной зоне и подачи различных потенциалов на аноды
- подкосинусный закон распределения генерируемого ионного потока (n < 1) позволяет обеспечить высокую однородность обработки при относительно малых дистанциях ионный источник - подложка
РАЗРАБОТЧИК
Центр 2.1 "Ионно-плазменные системы и технологии"
КОНТАКТЫ
ул. П. Бровки, 6, г. Минск, 220013, Республика Беларусь
☏ +375 17 293 80 79, +375 17 293 88 35
🖷 +375 17 293 88 35
🖂 svad@bsuir.by ; szavad@bsuir.by
🌐 plasma.bsuir.by
ДРУГИЕ РАЗРАБОТКИ НАПРАВЛЕНИЯ
ПЛАЗМЕННЫЕ ИСТОЧНИКИ ДЛЯ НЕЙТРАЛИЗАЦИИ ИОННЫХ ПУЧКОВ
МАГНЕТРОННЫЕ РАСПЫЛИТЕЛЬНЫЕ СИСТЕМЫ