ПРОТЯЖЕННЫЕ МАГНЕТРОННЫЕ РАСПЫЛИТЕЛЬНЫЕ СИСТЕМЫ СЕРИИ МСПР-1000



 

 

 

 

 

 

НАЗНАЧЕНИЕ

Протяженные магнетронные распылительные системы серии МСПР-1000 применяется в технологических установках вакуумного ионно-плазменного нанесения тонких пленок и предназначены для нанесения слоев металлов полупроводников и диэлектриков методами DC и импульсного MF (10-200 кГц) магнетронного распыления и реактивного магнетронного распыления на крупноформатные подложки. 

 

ОБЛАСТЬ ПРИМЕНЕНИЯ

  • DC магнетронное распыление
  • импульсное MF магнетронное распыление
  • DC / MF реактивное магнетронное распыление

 

ТЕХНИЧЕСКИЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ

Магнитная система                                                                                                                       Sr-Fe-O постоянные магниты
Размер мишени, мм  
ширина 100
длина до 1000 *
толщина до 12
Размер подложки, мм до 500 **
Напряжение разряда DC, В 300...600
Ток разряда DC, А до 10,0
Рабочие газы инертный или смесь
инертного и реактивного газов
(O2, N2 , CxHy)
Расход газа, мл/мин 45...60
Рабочее давление, Па 0,06...1,0
Скорость нанесения (Al мишени), DC, кВт 1
Габариты магнетрона, мм 665x144x72 ***
Масса, кг, не более 25,0 ***


* по требованию Заказчика размер мишени может быть изменен в диапазоне от 200 до 1000 мм
** при длине мишени 610 мм для заданной неравномерности толщины пленки  ±10%
*** при длине мишени 610 мм


ПРЕИМУЩЕСТВА

  • магнетронная система выполнена на Nd-Fe-B магнитах
  • косвенное охлаждение мишени и магнитов
  • медный корпус катода обеспечивает хорошее охлаждение мишени и магнитной системы
  • магнетрон устанавливается в вакуумной камере и легко позиционируется в любом положении
  • интегральная система газоснабжения

 

РАЗРАБОТЧИК

Центр 9.1 "Электронные технологии и техническая диагностика технологических сред и твердотельных структур"

 

КОНТАКТЫ

ул. П. Бровки, 6, г. Минск, 220013, Республика Беларусь
☏  +375 17 293 80 79, +375 17 293 88 35 
🖷  +375 17 293 88 35
🖂   svad@bsuir.by ; szavad@bsuir.by
🌐  plasma.bsuir.by

 

ДРУГИЕ РАЗРАБОТКИ НАПРАВЛЕНИЯ

ИОННЫЕ ИСТОЧНИКИ 

ПЛАЗМЕННЫЕ ИСТОЧНИКИ ДЛЯ НЕЙТРАЛИЗАЦИИ ИОННЫХ ПУЧКОВ

МАГНЕТРОННЫЕ РАСПЫЛИТЕЛЬНЫЕ СИСТЕМЫ

СИСТЕМЫ ДИАГНОСТИКИ ПАРАМЕТРОВ

ПРОГРАММНЫЙ КОМПЛЕКС "DEPOSITION"