ПРОТЯЖЕННЫЙ РАСПЫЛЯЮЩИЙ / АССИСТИРУЮЩИЙ ИОННЫЙ ИСТОЧНИК С ПОВОРОТНОЙ МИШЕНЬЮ



 

 

 

 

 

 

НАЗНАЧЕНИЕ

Однолучевой протяженный распыляющий / ассистирующий ионный источник с поворотной мишенью предназначен для предварительной ионной очистки и нанесения слоев на внутреннюю поверхность крупногабаритных цилиндрических объектов или барабанный подложкодержатель. 

Источник располагается в объеме вакуумной камеры, внутри барабанного подложкодержателя или крупногабаритного цилиндрического объекта. 

Применение источника позволяет отказаться от дополнительного ионного источника и размещения в ограниченном объеме несколько технологических устройств, что предоставляет возможность нанесения многослойных тонкопленочных покрытий ионно-плазменными методами на внутреннюю поверхность цилиндрических объектов диаметров 350 мм и более в едином вакуумном цикле

 

ТЕХНИЧЕСКИЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ

Размер мишени, мм                                                                                                            600x120 
Анодное напряжение DC, В                                                                                                                 1000...6000
Энергия ионов, эВ 400...2000
Ток разряда, мА до 500
Ток ионного пучка, мА до 250
Рабочее давление, Па 0,03...0,08
Расход газа, мл/мин до 80
Рабочие газы Ar, O2, N2, CHи т.д.
Скорость нанесения слоев (Al), нм/с до 0,8
Средняя скорость нанесения SiO2, нм/с 0,044 *
Неравномерность толщины наносимых слоев  
на длине 400 мм, %, не более 18
на длине 500 мм, %, не более 40
Размеры, мм 580x140x80
Масса, кг, не более 15

* при вращении барабанного подложкодержателя Ø 350 мм

 

ПРЕИМУЩЕСТВА

  • магнитная система выполнена на Sr-Fe-O постоянных магнитах
  • охлаждение анода, корпуса и мишени проточной водой
  • предварительная ионная очистка, нанесение слоев методами ионно-лучевого распыления и непосредственного нанесения слоев из ионного пучка применяется только один ионный источник, что достигается за счет применения поворотного узла мишени

 

РАЗРАБОТЧИК

Центр 9.1 "Электронные технологии и техническая диагностика технологических сред и твердотельных структур"

 

КОНТАКТЫ

ул. П. Бровки, 6, г. Минск, 220013, Республика Беларусь
☏  +375 17 293 80 79, +375 17 293 88 35 
🖷  +375 17 293 88 35
🖂   svad@bsuir.by ; szavad@bsuir.by
🌐  plasma.bsuir.by

 

ДРУГИЕ РАЗРАБОТКИ НАПРАВЛЕНИЯ

ИОННЫЕ ИСТОЧНИКИ 

ПЛАЗМЕННЫЕ ИСТОЧНИКИ ДЛЯ НЕЙТРАЛИЗАЦИИ ИОННЫХ ПУЧКОВ

МАГНЕТРОННЫЕ РАСПЫЛИТЕЛЬНЫЕ СИСТЕМЫ

СИСТЕМЫ ДИАГНОСТИКИ ПАРАМЕТРОВ

ПРОГРАММНЫЙ КОМПЛЕКС "DEPOSITION"