ПРОГРАММНЫЙ КОМПЛЕКС «DEPOSITION»



 

 

 

 

 

 

НАЗНАЧЕНИЕ

Программный комплекс "DEPOSITION" предназначен для расчета распределения скорости нанесения и толщины наносимых слоев при магнетронном распылении для различных конфигураций зон распыления магнетронных распылительных систем и систем перемещения подложек.

 

СОСТАВ КОМПЬЮТЕРНОЙ ПРОГРАММЫ

Комплекс включает в себя математические модели следующих вариантов процесса нанесения:

  • стационарное распыление с использованием аксиальной или протяженной магнетронной распылительной системы
  • магнетронное нанесение на рулонные или крупногабаритные подложки при линейном перемещении в зоне нанесения
  • магнетронное нанесение на подложки, расположенные на вращающемся барабанном подложкодержателе при расположении магнетрона внутри и снаружи подложкодержателя
  • магнетронное нанесение на вращающемся подложки и подложки расположенные на подложкодержателе планетарного типа
  • модель прогнозирования элементного состава нанесенных пленок при распылении мозаичных мишеней с произвольным расположение вставок из других материалов

В состав программы входят базы данных физических свойств распыляемых материалов. Операционная система - семейство проприетарных операционных систем корпорации Microsoft.

 

ТЕХНИЧЕСКИЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ

Видеоадаптер с поддержкой 32-битного цвета                                                                                                
Объем оперативной памяти, МБ, не менее 500
Объем свободного места на жестком диске, МБ, не менее 100
Современный процессор с разрядностью 32 и/или 64 бита  


Компьютерная программа "DEPOSITION" зарегистрирована в Национальном центре интеллектуальной собственности (свидетельство №736 от 19.02.2015 года).


ПРЕИМУЩЕСТВА

  • быстрый расчет профилей распределения скорости нанесения для протяженных и аксиальных магнетронов, магнетронов с несколькими зонами распыления при различной геометрии камеры и способах перемещения подложек
  • наличие большинства используемых в научных исследованиях и промышленности основных конфигураций процессов магнетронного распыления и возможность их расширения по запросу заказчика

 

РАЗРАБОТЧИК

Центр 2.1 "Ионно-плазменные системы и технологии"

 

КОНТАКТЫ

ул. П. Бровки, 6, г. Минск, 220013, Республика Беларусь
☏  +375 17 293 80 79, +375 17 293 88 35 
🖷  +375 17 293 88 35
🖂   svad@bsuir.by ; szavad@bsuir.by
🌐  plasma.bsuir.by

 

ДРУГИЕ РАЗРАБОТКИ НАПРАВЛЕНИЯ

ИОННЫЕ ИСТОЧНИКИ 

ПЛАЗМЕННЫЕ ИСТОЧНИКИ ДЛЯ НЕЙТРАЛИЗАЦИИ ИОННЫХ ПУЧКОВ

МАГНЕТРОННЫЕ РАСПЫЛИТЕЛЬНЫЕ СИСТЕМЫ

СИСТЕМЫ ДИАГНОСТИКИ ПАРАМЕТРОВ

ПРОГРАММНЫЙ КОМПЛЕКС "DEPOSITION"