ИОННЫЕ ИСТОЧНИКИ НА ОСНОВЕ ТОРЦЕВОГО ХОЛЛОВСКОГО УСКОРИТЕЛЯ СЕРИИ EHPM
|
|
|
|
НАЗНАЧЕНИЕ
Ионный источник на основе торцевого холловского ускорителя серии EHPM применяется в технологии вакуумного ионно-плазменного нанесения тонких пленок и предназначен для ионной очистки, ионного ассистирования и нанесения тонкопленочных слоев методом непосредственного нанесения из ионного пучка.
ОБЛАСТЬ ПРИМЕНЕНИЯ
- предварительная ионная очистка и активация поверхности
- ионно-ассистированное нанесение (IBAD) совместно с электронно-лучевыми, лазерными и дуговыми испарителями, ионно-лучевыми распыляющими системами
- прямое нанесение из пучка (DiBD)
ТЕХНИЧЕСКИЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ
Ионный источник EHPM-100
| Катодный нейтрализатор | накальный или безнакальный |
| Магнитная система | Sm-Co постоянные магниты |
| Охлаждение | без охлаждения |
| Напряжение разряда, В | 40...300 |
| Максимальный ток разряда, А | 3,5 |
| Расхождение пучка | > 45º |
| Энергия ионов, эВ | 30...210 |
| Газы |
Ar, O2, N2, H2, углеводороды, хлор- и фторсодержащие газы |
| Газовый поток, мл/мин | 2...30 |
| Диаметр, мм | 94 (3,7 IN) |
| Высота, мм | 76 (3,0 IN) |
| Масса, кг, не более | 4 |
Ионный источник EHPM-150
| Катодный нейтрализатор | накальный или безнакальный |
| Магнитная система | Sm-Co постоянные магниты |
| Охлаждение |
без охлаждения или с водяным охлаждением анода и магнитной системы |
| Напряжение разряда, В | 40...300 |
| Максимальный ток разряда, А | 6,5 |
| Расхождение пучка | > 45º |
| Энергия ионов, эВ | 30...210 |
| Газы |
Ar, O2, N2, H2, углеводороды, хлор- и фторсодержащие газы |
| Газовый поток, мл/мин | 6...40 |
| Диаметр, мм | 145 (5,7 IN) |
| Высота, мм | 102 (4,0 IN) |
| Масса, кг, не более | 6 |
ПРЕИМУЩЕСТВА
- особенностью ионных источников является магнитная система на постоянных магнитах. В качестве источника магнитного поля используются SmCo постоянные магниты с высокой температурой Кюри, которые имеют низкий дрейф характеристик при нагреве
- простота конструкции
- простота монтажа
РАЗРАБОТЧИК
Центр 2.1 "Ионно-плазменные системы и технологии"
КОНТАКТЫ
ул. П. Бровки, 6, г. Минск, 220013, Республика Беларусь
☏ +375 17 293 80 79, +375 17 293 88 35
🖷 +375 17 293 88 35
🖂 svad@bsuir.by ; szavad@bsuir.by
🌐 plasma.bsuir.by
ДРУГИЕ РАЗРАБОТКИ НАПРАВЛЕНИЯ
ПЛАЗМЕННЫЕ ИСТОЧНИКИ ДЛЯ НЕЙТРАЛИЗАЦИИ ИОННЫХ ПУЧКОВ
МАГНЕТРОННЫЕ РАСПЫЛИТЕЛЬНЫЕ СИСТЕМЫ