Главная / Продукция / Плазменные технологии

ИОННЫЙ ИСТОЧНИК НА ОСНОВЕ ТОРЦЕВОГО ХОЛЛОВСКОГО УСКОРИТЕЛЯ EHIS-002



 

 

 

 

 

 

НАЗНАЧЕНИЕ

Ионный источник на основе торцевого холловского ускорителя EHIS-002 предназначен для предварительной очистки и активации поверхности и подложек, ионного ассистирования при нанесении тонких пленок и формирования слоев методом непосредственного нанесения.

 

ОБЛАСТЬ ПРИМЕНЕНИЯ

  • ионно-ассистированное нанесение слоев (IBAD) совместно с электронно-лучевыми, лазерными и дуговыми испарителями, ионно-лучевыми распыляющими системами
  • формирование переходного слоя пленка-подложка (ионное перемешивание)
  • ионная очистка и активация поверхности
  • прямое нанесение из пучка (DiBD)

 

ТЕХНИЧЕСКИЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ

Напряжение разряда, В                                                                                                                       60...200
Ток разряда, А до 12
Энергия ионов, эВ 30...140
Ток ионного пучка, мА до 1500
Рабочие газы Ar, O2 , N2 , CH4 и т.д.
Рабочее давление, Па 0,008...0,06
Расход газа, мл/мин 9...60
Профиль ионного пучка j=kl*cosn α (n от 1..3)
Неравномерность обработки подложкодержателя Ø 1000 мм, %, не более 6

 

ПРЕИМУЩЕСТВА

  • простота конструкции
  • расширенные диапазоны рабочих режимов за счет использования в качестве источника магнитного поля электромагнита
  • водяное охлаждение анода и корпуса ионного источника
  • применение ионного источника позволяет формировать пленки методом электронно-лучевого испарения без нагрева подложек и наносить многослойные оптические покрытия с повышенными адгезионными и управляемыми оптическими свойствами
  • ионная бомбардировка позволяет увеличить плотность упаковки, повысить устойчивость и долговечность, модифицировать напряжения и улучшить стехиометрию
  • отсутствие нагрева подложки позволяет получать оптические покрытия на различных типах подложек, включая полимерные

 

РАЗРАБОТЧИК

Центр 2.1 "Ионно-плазменные системы и технологии"

 

КОНТАКТЫ

ул. П. Бровки, 6, г. Минск, 220013, Республика Беларусь
☏  +375 17 293 80 79, +375 17 293 88 35 
🖷  +375 17 293 88 35
🖂   svad@bsuir.by ; szavad@bsuir.by
🌐  plasma.bsuir.by

 

ДРУГИЕ РАЗРАБОТКИ НАПРАВЛЕНИЯ

ИОННЫЕ ИСТОЧНИКИ 

ПЛАЗМЕННЫЕ ИСТОЧНИКИ ДЛЯ НЕЙТРАЛИЗАЦИИ ИОННЫХ ПУЧКОВ

МАГНЕТРОННЫЕ РАСПЫЛИТЕЛЬНЫЕ СИСТЕМЫ

СИСТЕМЫ ДИАГНОСТИКИ ПАРАМЕТРОВ

ПРОГРАММНЫЙ КОМПЛЕКС "DEPOSITION"