МАГНЕТРОННАЯ РАСПЫЛИТЕЛЬНАЯ СИСТЕМА НЕСБАЛАНСИРОВАННОГО ТИПА МАС-80 



 

 

 

 

 

 

НАЗНАЧЕНИЕ

Магнетронная распылительная система несбалансированного типа МАС-80 предназначена для нанесения слоев металлов и соединений методами магнетронного и реактивного магнетронного распыления в условиях ионного ассистирования. 

 

ОБЛАСТЬ ПРИМЕНЕНИЯ

  • DC магнетронное распыление
  • импульсное MF магнетронное распыление
  • DC / MF реактивное магнетронное распыление

 

ТЕХНИЧЕСКИЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ

Мишень Ø 80 мм

Напряжение разряда DC, В                                                                                                                       300...600
Ток разряда DC, А до 4,0
Рабочее давление, Па 0,02...0,5
Плотность тока подложки, мА/см2 до 15
Коэффициент несбалансированности (К) 1,0...8,0
Рабочие газы инертный или смесь инертного
и реактивного газов 
(O2, N2 , CxHy)
Расход газа, мл/мин до 40
Размер мишени, мм Ø 80 *

* по требованию Заказчика размер мишени может быть изменен в диапазоне от 60 до 160 мм


ОСОБЕННОСТИ

В магнетронной распылительной системе несбалансированного типа МАС-80 основная магнитная система формирует сбалансированную конфигурацию магнитного поля на поверхности мишени. Дополнительный соленоид используется для управления распределением магнитного поля в области мишень-подложка. Эта конфигурация позволяет управлять плотностью ионного тока на подложку и также отношением ион/атом (i/a) на поверхности конденсации путем изменения уровня несбалансированности магнетрона (К). 

 

РАЗРАБОТЧИК

Центр 9.1 "Электронные технологии и техническая диагностика технологических сред и твердотельных структур"

 

КОНТАКТЫ

ул. П. Бровки, 6, г. Минск, 220013, Республика Беларусь
☏  +375 17 293 80 79, +375 17 293 88 35 
🖷  +375 17 293 88 35
🖂   svad@bsuir.by ; szavad@bsuir.by
🌐  plasma.bsuir.by

 

ДРУГИЕ РАЗРАБОТКИ НАПРАВЛЕНИЯ

ИОННЫЕ ИСТОЧНИКИ 

ПЛАЗМЕННЫЕ ИСТОЧНИКИ ДЛЯ НЕЙТРАЛИЗАЦИИ ИОННЫХ ПУЧКОВ

МАГНЕТРОННЫЕ РАСПЫЛИТЕЛЬНЫЕ СИСТЕМЫ

СИСТЕМЫ ДИАГНОСТИКИ ПАРАМЕТРОВ

ПРОГРАММНЫЙ КОМПЛЕКС "DEPOSITION"