МАГНЕТРОННАЯ РАСПЫЛИТЕЛЬНАЯ СИСТЕМА НЕСБАЛАНСИРОВАННОГО ТИПА МАС-80
|
|
|
|
НАЗНАЧЕНИЕ
Магнетронная распылительная система несбалансированного типа МАС-80 предназначена для нанесения слоев металлов и соединений методами магнетронного и реактивного магнетронного распыления в условиях ионного ассистирования.
ОБЛАСТЬ ПРИМЕНЕНИЯ
- DC магнетронное распыление
- импульсное MF магнетронное распыление
- DC / MF реактивное магнетронное распыление
ТЕХНИЧЕСКИЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ
Мишень Ø 80 мм
| Напряжение разряда DC, В | 300...600 |
| Ток разряда DC, А | до 4,0 |
| Рабочее давление, Па | 0,02...0,5 |
| Плотность тока подложки, мА/см2 | до 15 |
| Коэффициент несбалансированности (К) | 1,0...8,0 |
| Рабочие газы |
инертный или смесь инертного и реактивного газов (O2, N2 , CxHy) |
| Расход газа, мл/мин | до 40 |
| Размер мишени, мм | Ø 80 * |
* по требованию Заказчика размер мишени может быть изменен в диапазоне от 60 до 160 мм
ОСОБЕННОСТИ
В магнетронной распылительной системе несбалансированного типа МАС-80 основная магнитная система формирует сбалансированную конфигурацию магнитного поля на поверхности мишени. Дополнительный соленоид используется для управления распределением магнитного поля в области мишень-подложка. Эта конфигурация позволяет управлять плотностью ионного тока на подложку и также отношением ион/атом (i/a) на поверхности конденсации путем изменения уровня несбалансированности магнетрона (К).
РАЗРАБОТЧИК
Центр 2.1 "Ионно-плазменные системы и технологии"
КОНТАКТЫ
ул. П. Бровки, 6, г. Минск, 220013, Республика Беларусь
☏ +375 17 293 80 79, +375 17 293 88 35
🖷 +375 17 293 88 35
🖂 svad@bsuir.by ; szavad@bsuir.by
🌐 plasma.bsuir.by
ДРУГИЕ РАЗРАБОТКИ НАПРАВЛЕНИЯ
ПЛАЗМЕННЫЕ ИСТОЧНИКИ ДЛЯ НЕЙТРАЛИЗАЦИИ ИОННЫХ ПУЧКОВ
МАГНЕТРОННЫЕ РАСПЫЛИТЕЛЬНЫЕ СИСТЕМЫ