РАСПЫЛЯЮЩИЙ ИОННЫЙ ИСТОЧНИК НА ОСНОВЕ УСКОРИТЕЛЯ С АНОДНЫМ СЛОЕМ SPIS-002

 

 

 

 

 

 

 


НАЗНАЧЕНИЕ

Распыляющий ионный источник на основе ускорителя с анодным слоем SPIS-002 предназначен для формирования тонких пленок металлов, полупроводников и диэлектриков методом ионно-лучевого распыления и реактивного ионно-лучевого распыления.

 

ОБЛАСТЬ ПРИМЕНЕНИЯ

  • ионно-лучевое распыление
  • реактивное ионно-лучевое распыление

 

ТЕХНИЧЕСКИЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ

Диаметр мишени, мм                                                                                                                       80
Анодное напряжение DC, В 800...6000
Энергия ионов, эВ 300...2000
Ток разряда, мА до 300
Ток ионного пучка, мА до 250
Рабочее давление, Па 0,01...0,06
Расход газа, мл/мин до 40
Рабочие газы Ar, O2 , N2 , CH4 и т.д.
Скорость нанесения слоев (А1), нм/с до 0,8
Размеры, мм Ø 307х296
Масса, кг, не более 12

 

ПРЕИМУЩЕСТВА

  • ионный источник позволяет распылять металлические, полупроводниковые и диэлектрические (SiO2, TiO2, BN и т.д.) мишени
  • в качестве источника магнитного поля используется электромагнит, что позволяет оптимизировать индукцию магнитного поля в канале ускорения и повысить эффективность формирования ионных пучков
  • оригинальная конструкция фланцевого крепления и съемного мишенного блока ионного источника обеспечивает легкий доступ оператора для смены мишеней и очистки ионных источников
  • для формирования многослойных структур в едином вакуумном цикле ионный источник может оснащаться вращаемым мишенедержателем с четырьмя мишенями из различных материалов
  • возможность переделки распыляющего ионного источника в ассистирующий путем замены деталей разрядной зоны и установки мишенного блока
  • использование смесей инертных и реактивных газов (кислород, азот и т.д.) позволяет получать компонентные пленки при распылении металлических мишеней

 

РАЗРАБОТЧИК

Центр 9.1 "Электронные технологии и техническая диагностика технологических сред и твердотельных структур"

 

КОНТАКТЫ

ул. П. Бровки, 6, г. Минск, 220013, Республика Беларусь
☏  +375 17 293 80 79, +375 17 293 88 35 
🖷  +375 17 293 88 35
🖂   svad@bsuir.by ; szavad@bsuir.by
🌐  plasma.bsuir.by

 

ДРУГИЕ РАЗРАБОТКИ НАПРАВЛЕНИЯ

ИОННЫЕ ИСТОЧНИКИ 

ПЛАЗМЕННЫЕ ИСТОЧНИКИ ДЛЯ НЕЙТРАЛИЗАЦИИ ИОННЫХ ПУЧКОВ

МАГНЕТРОННЫЕ РАСПЫЛИТЕЛЬНЫЕ СИСТЕМЫ

СИСТЕМЫ ДИАГНОСТИКИ ПАРАМЕТРОВ

ПРОГРАММНЫЙ КОМПЛЕКС "DEPOSITION"