ПРОТЯЖЕННЫЙ АССИСТИРУЮЩИЙ ИОННЫЙ ИСТОЧНИК
|
|
|
НАЗНАЧЕНИЕ
Протяженный ассистирующий ионный источник на основе ускорителя с анодным слоем предназначен для предварительной ионной очистки подложек, ионного травления, ионного ассистирования при нанесения тонких пленок и формирования слоев методом непосредственного нанесения.
ОБЛАСТЬ ПРИМЕНЕНИЯ
- ионно-ассистированное нанесение (IBAD) совместно с электронно-лучевыми, лазерными и дуговыми испарителями, ионно-лучевыми распыляющими системами
- формирование переходного слоя пленка-подложка (ионное перемешивание)
- предварительная ионная очистка
- ионно-лучевое травление с возможностью использования химически активных газов
- прямое нанесение из пучка (DiBD)
- ионно-ассистированное магнетронное распыление (IBAM)
ТЕХНИЧЕСКИЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ
Размещение | внутрикамерное |
Магнитная система |
Sr-Fe-O постоянные магниты |
Длина ионного пучка, мм | 400 |
Ток разряда, мА | до 400 |
Анодное напряжение DC, В | 800...4500 |
Энергия ионов, эВ | 300...1500 |
Ток ионного пучка, мА | до 200 |
Рабочее давление, Па | 0,02...0,09 |
Расход газа, мл/мин | до 80 |
Рабочие газы | Ar, O2, N2, CH4 и т.д. |
Охлаждение |
анода и корпуса ИИ путем принудительной циркуляции проточной воды |
Размеры корпуса ИИ, мм | 460x90x50 |
Габариты, мм, не более | 500x100x100 |
Масса, кг, не более | 12 |
РАЗРАБОТЧИК
Центр 2.1 "Ионно-плазменные системы и технологии"
КОНТАКТЫ
ул. П. Бровки, 6, г. Минск, 220013, Республика Беларусь
☏ +375 17 293 80 79, +375 17 293 88 35
🖷 +375 17 293 88 35
🖂 svad@bsuir.by ; szavad@bsuir.by
🌐 plasma.bsuir.by
ДРУГИЕ РАЗРАБОТКИ НАПРАВЛЕНИЯ
ПЛАЗМЕННЫЕ ИСТОЧНИКИ ДЛЯ НЕЙТРАЛИЗАЦИИ ИОННЫХ ПУЧКОВ
МАГНЕТРОННЫЕ РАСПЫЛИТЕЛЬНЫЕ СИСТЕМЫ